Durante a stampa, e prosperitæ da çifra e di substrati UV peuan ëse influensæ da-a variaçion do workshop.a-o momento che a temperatua da circostansa a l’é bassa e l’umiditæ a l’é erta a fòrsa d’adexon tra ule inchiostro e substrati a se reduxe tanto che a reaçion ò a curvatua UV a vëgne ciù lento, donca emmo aggiusto a temperatua de l’impia geneâ, a temperatua de workshop a dovieiva ëse 20-25 laurea , e l’umiditæ relativa a l’é do 50%{{5}%{6}}
